A.致死損傷
B.早期損傷
C.晚期損傷
D.亞致死損傷
E.潛在致死損傷
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A.G1期
B.G2期
C.M期
D.N期
E.S期
A.12.5°偏轉(zhuǎn)
B.45°偏轉(zhuǎn)
C.90°偏轉(zhuǎn)
D.112.5°(滑雪式)偏轉(zhuǎn)
E.270°(消色散)偏轉(zhuǎn)
A.原射電子的反向散射
B.電子束的小角度多級(jí)散射
C.不規(guī)則射野輸出因子的計(jì)算
D.斜入射對(duì)劑量影響的處理需進(jìn)一步完善
E.高能次級(jí)電子在不均勻組織中的劑量計(jì)算
A.均整器
B.X射線靶
C.初級(jí)準(zhǔn)直器
D.二級(jí)準(zhǔn)直器
E.監(jiān)測(cè)電離室
A.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
B.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所位置不均勻組織的厚度
C.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度
D.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
E.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀,而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
最新試題
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線能量。
檢查燈光野與射野的一致性通常用膠片法。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
實(shí)際患者治療時(shí),無(wú)環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
α/β不僅代表了細(xì)胞存活曲線的曲度,也代表了細(xì)胞對(duì)亞致死損傷的修復(fù)能力。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
治療證實(shí)是治療準(zhǔn)確執(zhí)行的重要保證,包括驗(yàn)證記錄系統(tǒng),射野影像系統(tǒng),活體劑量測(cè)量系統(tǒng)。
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。