A.指型電離室
B.半導(dǎo)體探測(cè)器
C.中子探測(cè)器
D.閃爍計(jì)數(shù)器
E.正比計(jì)數(shù)器
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A.射線束能量高
B.射線束劑量率高
C.放射源尺寸大
D.曝光時(shí)間長(zhǎng)
E.照射距離長(zhǎng)
A.也稱為Kerma
B.從間接電離輻射轉(zhuǎn)移到直接電離輻射的平均數(shù)量
C.不考慮能量轉(zhuǎn)移后的情況
D.沉積在單位質(zhì)量中的能量
E.適用于非直接電離輻射的一個(gè)非隨機(jī)量
A.95%
B.90%
C.85%
D.80%
E.75%
A.絕對(duì)比釋動(dòng)能和相對(duì)比釋動(dòng)能
B.絕對(duì)比釋動(dòng)能和碰撞比釋動(dòng)能
C.絕對(duì)比釋動(dòng)能和輻射比釋動(dòng)能
D.絕對(duì)比釋動(dòng)能、相對(duì)比釋動(dòng)能、碰撞比釋動(dòng)能和輻射比釋動(dòng)能
E.碰撞比釋動(dòng)能和輻射比釋動(dòng)能
A.增加了治療凈空間
B.不能單獨(dú)使用原有的一、二級(jí)準(zhǔn)直器進(jìn)行治療
C.葉片長(zhǎng)度比替代二級(jí)準(zhǔn)直器的MLC葉片運(yùn)動(dòng)范圍要長(zhǎng)或形成的射野較小
D.增加了漏射劑量
E.準(zhǔn)直器散射因子(SC.和模體散射因子(Sp)不變
最新試題
準(zhǔn)直器所產(chǎn)生的散射線對(duì)劑量的貢獻(xiàn)主要源于二級(jí)準(zhǔn)直器。
帶電粒子與物質(zhì)的一次相互作用可以損失其能量的全部或很大一部分。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
對(duì)鈷60機(jī)射野的對(duì)稱性和平坦度的檢查應(yīng)每月一次。
低LET射線照射哺乳動(dòng)物細(xì)胞存活曲線在低劑量段有肩區(qū),提示()。
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱分別為QA、QC。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。