A.1個(gè)
B.30個(gè)
C.128個(gè)
D.201個(gè)
E.256個(gè)
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.指型電離室
B.半導(dǎo)體探測(cè)器
C.井行電離室
D.閃爍計(jì)數(shù)器
E.正比計(jì)數(shù)器
A.確定腫瘤的位置和范圍
B.確定腫瘤與周圍組織、重要器官間的相互關(guān)系
C.醫(yī)生為患者制定治療方針
D.為計(jì)劃設(shè)計(jì)提供必要的與患者有關(guān)的解剖材料
E.勾畫出治療部位靶區(qū)及正常組織的輪廓
A.1.0%
B.1.5%
C.2.0%
D.2.5%
E.3.0%
A.治療機(jī)頭的漏射線檢測(cè)
B.準(zhǔn)直器的漏射線檢測(cè)
C.治療室外X射線漏射檢測(cè)
D.治療室外中子漏射檢測(cè)
E.治療室外電子漏射檢測(cè)
A.反散射因子
B.百分深度劑量
C.組織空氣比
D.組織最大劑量比
E.輸出劑量率
最新試題
利用圓形小野旋轉(zhuǎn)集束照射是X（γ）射線SRT（SRS）的基本特征。
電磁掃描調(diào)強(qiáng)不僅具有X 射線光子的利用率高、治療時(shí)間短的優(yōu)點(diǎn)，而且可實(shí)現(xiàn)電子束、質(zhì)子束的調(diào)強(qiáng)治療。
等效射野指的是通過計(jì)算換算后的方形野。
低LET射線的RBE值（）1.0，高LET射線的RBE值（）2.0。
“4R”描述的是影響腫瘤和正常組織的輻射生物效應(yīng)因素。
電離室型劑量?jī)x在每次測(cè)量前必需對(duì)氣溫和氣壓進(jìn)行修正。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
實(shí)際患者治療時(shí)，無環(huán)重定位技術(shù)的靶點(diǎn)位置總的治療精度稍劣于有環(huán)技術(shù)。
對(duì)重離子，線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
巴黎系統(tǒng)規(guī)定臨床靶區(qū)的厚度T大于1.2cm 時(shí)，應(yīng)采用雙平面插植。