A.0.6%
B.1.6%
C.3.2%
D.20%
E.40%
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你可能感興趣的試題
A.所有X射線能量范圍應(yīng)使用相同的濾過(guò)板
B.140kV以下用鋁,140kV以上用銅或銅十鋁復(fù)合過(guò)濾
C.使用復(fù)合過(guò)濾板時(shí)應(yīng)沿射線方向先放原子序數(shù)小的,后板原子序數(shù)大的
D.使用濾過(guò)板不會(huì)使射線強(qiáng)度下降
E.經(jīng)過(guò)濾過(guò)板后的X射線的半價(jià)層比原來(lái)低
A.光釋光系統(tǒng)
B.放射光致發(fā)光玻璃劑量學(xué)系統(tǒng)
C.熱釋光劑量計(jì)
D.膠片劑量計(jì)
E.電子個(gè)人劑量計(jì)
A.有絲分裂前期(G2)
B.有絲分裂期(M)
C.DNA合成前期(G1)
D.DNA合成期(S)
E.靜止期(G0)
A.<1mm
C.<3mm
D.<4mm
E.<5mm
A.治療技術(shù)的描述
B.總參考空氣比釋動(dòng)能
C.參考區(qū)的描述
D.參考點(diǎn)劑量
E.劑量均勻性
最新試題
質(zhì)量保證和質(zhì)量控制的簡(jiǎn)稱(chēng)分別為QA、QC。
巴黎系統(tǒng)的插植規(guī)定所有的放射源的線比釋動(dòng)能率相等。
利用圓形小野旋轉(zhuǎn)集束照射是X(γ)射線SRT(SRS)的基本特征。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
光電效應(yīng)時(shí)入射X(γ)光子的能量一部分轉(zhuǎn)化為次級(jí)電子動(dòng)能,另一部分為特征X 射線能量。
伽瑪?shù)栋悬c(diǎn)位置精度高于X射線立體定向治療系統(tǒng)的精度。
源皮距越小,百分深度劑量越大。
對(duì)射野輸出劑量的檢測(cè)頻率,加速器高于鈷60機(jī)。