單項(xiàng)選擇題具有一定能量的帶電粒子與靶物質(zhì)原子發(fā)生作用，其主要相互作用方式不包括（）

A.與核外電子發(fā)生彈性碰撞飛
B.與核外電子發(fā)生非彈性碰撞
C.與原子核發(fā)生彈性碰撞
D.與原子核發(fā)生非彈性碰撞
E.與原子核發(fā)生核反應(yīng)


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1.單項(xiàng)選擇題在原子結(jié)構(gòu)的殼層模型中，核外電子運(yùn)動狀態(tài)使用一系列量子數(shù)來描述。這些量子數(shù)中不包含（）

A.主量子數(shù)
B.宇稱
C.軌道角動量量子數(shù)
D.軌道方向量子數(shù)
E.自旋量子數(shù)

2.單項(xiàng)選擇題三維治療計(jì)劃目前最常用的電子束劑量計(jì)算模型是（）

A.經(jīng)驗(yàn)?zāi)Ｐ?br /> B.雙群模型
C.陣化擴(kuò)散方程模型
D.筆形束模型
E.“原射”和散射分量的分別計(jì)算

3.單項(xiàng)選擇題不均勻組織的三維處理方式與一維處理方式的區(qū)別是（）

A.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度，而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
B.前者可考慮、計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀，而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度
C.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀，而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)位置不均勻組織的厚度
D.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀，而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀
E.前者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面及相鄰層面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀，而后者可考慮計(jì)算點(diǎn)所在平面內(nèi)不均勻組織的實(shí)際形狀