A.模體表面下
B.模體中心
C.模體表面
D.模體表面下射野中心軸上最大劑量點(diǎn)處
E.模體后緣
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A.標(biāo)準(zhǔn)模體
B.均勻模體
C.替代模體
D.水模體
E.組織填充模體
A.高LET;高RBE;高OER
B.高LET;高RBE;低OER
C.高LET;低RBE;高OER
D.高LET;低RBE;低OER
E.低LET;高RBE;高OER
A.質(zhì)子
B.快中子
C.π負(fù)介子
D.氮離子
E.氖離子
A.減少葉片間漏射線
B.減少葉片端面間的漏射
C.減小幾何半影
D.減小散射半影
E.減小穿射半影
A.檢測(cè)X射線
B.監(jiān)測(cè)電子束的劑量率
C.監(jiān)測(cè)積分劑量
D.監(jiān)測(cè)射野的平坦度
E.監(jiān)測(cè)射野的對(duì)稱性
最新試題
目前靶區(qū)劑量的精確性規(guī)定應(yīng)達(dá)到()。
兩種不同深度處的百分深度劑量比值稱為射線質(zhì)指數(shù)或能量指數(shù)。
低LET射線的RBE值()1.0,高LET射線的RBE值()2.0。
利用圓形小野旋轉(zhuǎn)集束照射是X(γ)射線SRT(SRS)的基本特征。
射野中心軸上百分深度劑量值的大小直接反應(yīng)了射線質(zhì)(能量)的高低。
質(zhì)子束的優(yōu)勢(shì)在于布拉格峰形百分深度劑量分布。
對(duì)重離子,線性碰撞本領(lǐng)是選擇組織替代材料的首要條件。
百分深度劑量受照射野面積的影響。
影響靶點(diǎn)位置精確度的因素包括機(jī)械精度,定位精度和擺位精度。
帶電粒子入射到物體時(shí),沒(méi)有確定的射程。