最新試題
“水擊”消除方法根本指導思想是（）
碳四裝置催化劑再生前需要對待再生反應系統(tǒng)做（）
生產(chǎn)中允許塔盤有少量泄漏，但正常生產(chǎn)泄漏量不能超過（）
萃取裝置進料量增大后，操作上應采?。ǎ┐胧?。
引起脫異丁烷塔底溫高的原因，以下正確的是（）
