A.雙壁單影透照像質(zhì)計放置在膠片側(cè)
B.當像質(zhì)計放置在膠片側(cè)時,應在像質(zhì)計上適當位置放置鉛字“F”作為標記,“F”標記影象應與像質(zhì)計的標記同時出現(xiàn)在底片上,且應在檢測報告中注明
C.單壁透照時允許像質(zhì)計放置在膠片側(cè),但必須進行對比試驗
D.當一張膠片上同時透照多條焊接接頭時,至少在第一條、中間一條和最后一條焊接接頭處各放一個置像質(zhì)計
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.X射線照相應盡量選用較低的管電壓
B.γ射線照相時,總的曝光時間應不小于輸送源所需時間的10倍
C.X射線照相,當焦距為700mm時,曝光量的推薦值為:AB級不小于15mA.min
D.X射線照相在采用較高管電壓時,應保證適當?shù)钠毓饬?/p>
A.電源電壓下降超過10%時,黑光燈輸出功率將大大降低
B.電源電壓波動超過10%時,對人眼損傷較大
C.電源電壓過低嚴重影響檢測靈敏度
D.電源電壓過高嚴重影響黑光燈壽命
A.試塊清洗后,放在酒精溶液中保存
B.施加滲透劑可直接進行刷涂
C.施加滲透劑不能用噴涂方法
D.熒光滲透檢測用試塊可用于著色滲透檢測
A.滲透檢測質(zhì)量分級考慮到了缺陷性質(zhì)、數(shù)量、尺寸和密集程度
B.圓形缺陷的分級既限定了單個缺陷最大尺寸,又限定了缺陷密集程度
C.焊接接頭不允許存在橫向線性缺陷顯示
D.評定框內(nèi)同時存在線性缺陷和圓形缺陷時,應進行綜合評級
A.干式顯像劑應對其比重進行經(jīng)常校驗
B.干式顯像劑應經(jīng)常檢查粉末凝聚
C.干式顯像劑應經(jīng)常檢查殘留熒光
D.干式顯像劑對工件無腐蝕
最新試題
使用變型波檢測的一個優(yōu)點是()
一般認為表面波探測的有效深度約為()
光電效應發(fā)生的機率隨什么變化()
對軸類鋼制鍛件,用2.5P14的直探頭,在圓周面上用底波作基準反射而進行靈敏度調(diào)整時,該軸鍛件的直徑至少應大于()
對于鉬靶X射線管,在管電壓低于()千伏時是不會產(chǎn)生特征X射線的。
某超聲波探頭,壓電晶片的頻率常數(shù)Nt=1500m/s晶片厚度為0.3mm,則該探頭工作頻率為()
影響較大的散射線通常來自()
探頭的分辨力()
若評片燈亮度增為原來的兩倍,則底片透光度(It/I0)變?yōu)樵瓉淼模ǎ?/p>
當射線穿透任何一物體時,部分被物體吸收,部分則穿透該物體,還有一部分則被構成該物的原子內(nèi)電子向各方面散射,此散射為()