A、物質(zhì)都是由原子構(gòu)成的
B、物質(zhì)都是由分子構(gòu)成的
C、物質(zhì)是由分子和原子構(gòu)成的
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A、水
B、鹽酸
C、硫酸
D、糖水
A、在大氣條件下,鋼鐵工件上的銅鍍層
B、在大氣條件下,鋼鐵工件上的銅、鎳鍍層
C、在大氣條件下,鋼鐵工件上的銅、鎳、鉻鍍層
D、在大氣條件下,鋼鐵工件上的鋅鍍層
A、清洗
B、溶液的帶出
C、溶液的過(guò)濾
D、溶液的廢棄
A、拋光后的工件表面更光亮
B、拋光溶液使用壽命更長(zhǎng)
C、不產(chǎn)生N(黃煙)等有害氣體
D、可以拋光形狀更復(fù)雜的工件
A、一般情況下,磨光輪的圓周速度越高,磨光精度越低
B、磨光輪的直徑越大,轉(zhuǎn)速越高,則其圓周速度就越大
C、選擇磨光輪的圓周速度的大小應(yīng)與被處理工件的硬度成正比
D、被磨金屬工件的硬度越高,磨光時(shí)所采用的磨料顆粒度應(yīng)越大,即金剛砂的目數(shù)應(yīng)越小
最新試題
在一般光亮鍍鎳中,處理有機(jī)產(chǎn)物分解過(guò)多的方法不合理的是()。
在氰化鍍銅中,陽(yáng)極反應(yīng)不可能生成的物質(zhì)是()。
赫爾槽試驗(yàn)應(yīng)用在哪些方面?
鍍鉻的電流效率很低,大部分電流消耗在()反應(yīng)上。
在氨三乙酸一氯化銨鍍鋅中,陰極反應(yīng)不能生成的物質(zhì)是()。
在普通鍍鎳中,不是去除鍍液中有機(jī)雜質(zhì)的方法是()。
在普通硫酸鹽鍍銅中,硫酸含量太小,可采?。ǎ┑姆椒?。
在普通硫酸鹽鍍銅中,鍍層太軟的原因是()。
DE 型鍍鋅中,鍍層光澤不均勻的原因是()。
針對(duì)一般光亮鍍鎳鍍液糖精過(guò)多可采取的方法是()。