平版曬版中，主要應(yīng)用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。

燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時(shí)，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。

網(wǎng)點(diǎn)虛暈度是指網(wǎng)點(diǎn)邊緣區(qū)域密度過(guò)渡的快慢程度。過(guò)渡快的網(wǎng)點(diǎn)，其虛邊較寬，清晰度好，曬版時(shí)網(wǎng)點(diǎn)的還原再現(xiàn)性好。

在曬版過(guò)程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險(xiǎn)和不必要的事故。

套規(guī)線時(shí)可能套得不準(zhǔn)，為了解決這個(gè)問(wèn)題，我們?cè)谔滓?guī)線的時(shí)候一定要用放大鏡復(fù)校。

采用面光源曬版時(shí)，可通過(guò)縮小燈距和使用分光格將面光源分割成局部點(diǎn)光源等方式。既可提高曝光速度，又可減少散射光和漫射光。

由于印版經(jīng)常性的和油墨、潤(rùn)色液及一些化學(xué)溶劑接觸，所以要求其具有較強(qiáng)的耐抗性能。但是在為了實(shí)現(xiàn)印刷中更容易和化學(xué)溶劑作用，印版的化學(xué)穩(wěn)定性一般比較差。

版基是印版圖文的載體，起著支撐印刷圖文的作用，而我們?cè)谄桨鏁癜嬷兴褂玫腜S版屬于金屬版基。

印版應(yīng)具有良好的表面平整性，特別是在有效工作面內(nèi)更應(yīng)具有如此特征。

陽(yáng)圖型PS版防止除臟曝光過(guò)度，可減少二次曝光時(shí)間。