單項(xiàng)選擇題后腭桿在義齒支持力較差時(shí)，應(yīng)離開黏膜（）mm。

A.0.1~0.2
B.0.3~0.5
C.0.2~0.3
D.0.4~0.6
E.0.5~0.6


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1.單項(xiàng)選擇題以下哪項(xiàng)不是包埋蠟型的目的（）

A.形成鑄模腔
B.獲得包埋材料的凝固膨脹
C.獲得包埋材料的溫度膨脹
D.補(bǔ)償鑄金的收縮
E.補(bǔ)償鑄金的膨脹

2.單項(xiàng)選擇題在復(fù)制耐火模型的過程中，應(yīng)該將石膏模型（）

A.固定在下層型盒的中央
B.固定在下層型盒的一側(cè)
C.固定在上層型盒的中央
D.固定在上層型盒的一側(cè)
E.固定在頂蓋上