A.與黏膜點(diǎn)狀接觸
B.離開(kāi)黏膜3mm以上
C.離開(kāi)黏膜1mm
D.離開(kāi)黏膜2mm
E.離開(kāi)黏膜3mm
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A.修復(fù)體要正確地恢復(fù)患牙的解剖形態(tài)
B.修復(fù)體要恢復(fù)患牙的功能
C.修復(fù)體盡可能厚些,隔絕細(xì)菌侵入
D.修復(fù)體邊緣要位于自潔區(qū)
E.以上都是
金屬全冠牙體預(yù)備時(shí),1/3預(yù)備成斜面是為了()
A.減少牙尖斜度
B.減少牙尖高度
C.增加固位力
D.減少頰舌徑寬度
E.以上都是
A.正午直射陽(yáng)光
B.藍(lán)天下
C.日光燈下
D.牙椅照明燈下
E.自然光
A.四環(huán)素牙
B.畸形牙
C.前牙散在間隙
D.反牙
E.過(guò)小牙
A.金屬與瓷粉有良好的生物相容性
B.金屬與瓷粉有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度、硬度
C.金屬的熔點(diǎn)應(yīng)大于烤瓷粉的熔點(diǎn)
D.金屬的熱膨脹系數(shù)應(yīng)略小于烤瓷粉的熱膨脹系數(shù)
E.烤瓷粉的顏色應(yīng)具有可匹配性
最新試題
活動(dòng)義齒基托蠟型腭側(cè)邊緣()
在前后都有缺牙的孤立前磨牙上最好設(shè)計(jì)()
可生長(zhǎng)發(fā)育形成中鼻突的是()
新生兒顱部與面部容量比是()
牙體缺損修復(fù)時(shí),牙體制備如削磨過(guò)多接近牙髓,修復(fù)后可出現(xiàn)()
因創(chuàng)傷造成的隱裂無(wú)牙髓癥狀時(shí),應(yīng)首先采用()
下頜隆突處基托()
可生長(zhǎng)發(fā)育形成第一硬腭的是()
活動(dòng)義齒基托蠟型唇頰側(cè)邊緣()
引起哈欽森牙的是()