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名詞解釋臨界曝光量

使角膜開(kāi)始溶解所需最小曝光量。

1.名詞解釋分辨率R

是對(duì)光刻工藝可以到達(dá)的最小光刻圓形尺寸的一種描述。

2.名詞解釋ULSI對(duì)光刻的要求

高分辨率；高靈敏光刻膠；低缺陷；精密的套刻對(duì)準(zhǔn)。

3.名詞解釋刻蝕

通過(guò)腐蝕，將光刻膠上圖形完整整地轉(zhuǎn)移到Si片上。

4.名詞解釋光刻三要素

光刻機(jī)，光刻板（掩模板），光刻膠。

5.名詞解釋光刻

通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)，將光刻板上的圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上。