光刻機(jī)，光刻板（掩模板），光刻膠。
通過光化學(xué)反應(yīng)，將光刻板上的圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上。
是指利用外延生長的基本原理以及硅在絕緣體上很難核化成膜的特性，在硅表面指定區(qū)域生長外延層而其他區(qū)域不生長的技術(shù)。
