規(guī)定版圖幾何設計規(guī)則的意義是什么？

從天然硅中獲得達到生產(chǎn)半導體器件所需純度的SGS要經(jīng)過（）等步驟。

比較砷化鎵和磷化銦等襯底與硅襯底上的電感等效電路，試分析兩者存在差異的原因。

由硅片生產(chǎn)的半導體產(chǎn)品，又被稱為（）。

利用2μm×6μm的多晶硅柵極覆蓋在4μm×12μm薄氧化層的正中間構(gòu)成一個MOS管，已知Cox＝5×10-4pF/μm2，估算柵極電容。

根據(jù)圖，給出M2管的漏極電流表達式。

說明MOS器件噪聲的來源、成因及減小方法。

為提高CMOS集成電路的抗自鎖能力，可在版圖設計上采取哪些措施？

硅半導體工藝中的絕緣材料主要來源于硅自身產(chǎn)生的（）材料等。

晶體管的名字取自于（）和（）兩詞。