多項(xiàng)選擇題

紅外線分析儀測(cè)量氣室或晶片被污染后,使儀器靈敏度下降,測(cè)量誤差增大,在清洗氣室及窗口晶片時(shí),要選擇相應(yīng)的清洗劑,嚴(yán)禁破壞()的光滑度。

A、切光片
B、氣室內(nèi)壁
C、晶片
D、參比室

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