A.氫質(zhì)子磁矢量都平行主磁場且方向相同
B.氫質(zhì)子磁矢量都平行主磁場且方向相反
C.氫質(zhì)子磁矢量都平行主磁場且低能級質(zhì)子與主磁場方向相同
D.氫質(zhì)子磁矢量都平行主磁場且高能級質(zhì)子與主磁場方向相同
E.氫質(zhì)子磁矢量不受主磁場影響

A.機(jī)器主磁場強(qiáng)度
B.磁場均勻度
C.軟件質(zhì)量
D.磁體重量
E.附屬設(shè)備

A.噪聲
B.信噪比
C.對比度
D.分辨率
E.IR選擇

A.時間飛躍法MRA（TOF-MRA.
B.相位對比MRA（PC-MRA.
C.對比增強(qiáng)MRA（CE-MRA.
D.相位對比MRA需靜脈注射對比劑
E.對比增強(qiáng)MRA需靜脈注射對比劑

A.化學(xué)位移頻率選擇飽和技術(shù)
B.化學(xué)位移水-脂反相位飽和成像技術(shù)
C.幅度選擇飽和法
D.預(yù)飽和技術(shù)
E.水激勵技術(shù)