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在硅片的拋光過程中,下列因素中不是影響粗拋的主要因素是()。
A.粗拋液的濃度
B.粗拋時間
C.溶液的密度
D.溶液的溫度
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單項選擇題
常溫下本征半導體硅的禁帶寬度為()eV。
A.1.12
B.2.14
C.1.42
D.0.92
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單項選擇題
按照能帶結構理論,本征半導體的能帶可以分為()個。
A.1
B.2
C.3
D.4
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