碳四裝置回流罐頂去低壓調(diào)節(jié)閥是（）

“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

氣體分餾裝置處理量超負(fù)荷生產(chǎn)時(shí)，操作上注意事項(xiàng)以下哪些是正確的（）

萃取裝置進(jìn)料量增大后，操作上應(yīng)采?。ǎ┐胧?。

碳四裂解加熱爐烘爐的目的是（）

碳四裝置再生過(guò)程中需要（）介質(zhì)進(jìn)行再生操作。

碳四裝置催化劑再生前需要對(duì)待再生反應(yīng)系統(tǒng)做（）

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

液化氣引進(jìn)塔后，趕氮?dú)饨Y(jié)束，塔底通熱源以后，會(huì)發(fā)生塔底液面急速下降，此時(shí)這些液態(tài)烴原料到（）去了。

除去儀表問(wèn)題，脫乙烷塔壓力波動(dòng)實(shí)質(zhì)是（）被破壞。