生產(chǎn)中允許塔盤有少量泄漏，但正常生產(chǎn)泄漏量不能超過（）

碳四裂解裝置加熱反應(yīng)系統(tǒng)結(jié)焦危害是（）

碳四裝置反應(yīng)器原料來自于（）

“水擊”消除方法根本指導(dǎo)思想是（）

氣分裝置分餾塔進(jìn)料口位置應(yīng)（）

碳四裝置催化劑再生前需要對待再生反應(yīng)系統(tǒng)做（）

氣分裝置地下水罐的冷凝水來自于（）

氣分裝置脫乙烷塔塔頂溫高，是由于（）引起。

引起脫異丁烷塔底溫高的原因，以下正確的是（）

碳四裝置再生系統(tǒng)再生前必須確定（）是合格的。