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對工藝設(shè)備容積不大于95m3、壓力不大于3.5MPa、流量不大于38L/s的生產(chǎn)裝置,且為第二級釋放源,爆炸危險區(qū)域內(nèi),地坪下的坑、溝劃為()區(qū)。
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單項選擇題
無釋放源的生產(chǎn)裝置區(qū)與有頂無墻建筑物且有第二級釋放源的爆炸性氣體環(huán)境相鄰,并用非燃燒體的實體墻隔開,當(dāng)易燃物質(zhì)輕于空氣時,以釋放源為中心,半徑為4.5m的范圍內(nèi)劃為()區(qū)。
A.0
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單項選擇題
當(dāng)冷卻塔的風(fēng)扇反轉(zhuǎn)時,冷卻塔側(cè)壁外水平距離半徑為3m,高度為冷卻塔高度的范圍內(nèi)劃為()區(qū)。
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