全可調(diào)
架和半可調(diào)架的區(qū)別在于（）
A.能否作開閉、側(cè)方和前伸運(yùn)動(dòng)
B.髁導(dǎo)斜度能否調(diào)節(jié)
C.側(cè)柱距離能否調(diào)節(jié)
D.切導(dǎo)斜度能否調(diào)節(jié)
E.模擬口腔下頜運(yùn)動(dòng)狀態(tài)
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A.功能印模
B.解剖式印摸
C.加壓印模
D.減壓印模
E.均勻性印模
下列哪項(xiàng)不是與前伸
平衡相關(guān)的因素（）
A.髁導(dǎo)斜度
B.切導(dǎo)斜度
C.牙尖斜度
D.矢狀曲線曲度
E.定位平面斜度
全口義齒正中
選磨時(shí)如一側(cè)上牙舌尖早期接觸側(cè)向運(yùn)動(dòng)無(wú)早接觸應(yīng)選磨（）
A.上頜牙舌尖
B.下頜牙頰尖
C.下頜牙舌尖
D.上頜中央窩
E.下頜中央窩
戴全口義齒作側(cè)向
運(yùn)動(dòng)時(shí)工作側(cè)頰尖不接觸如何才能達(dá)到側(cè)向平衡（）
A.加大補(bǔ)償曲線曲度
B.減小補(bǔ)償曲線曲度
C.加大上頜橫曲線曲度
D.減小上頜橫曲線曲度
E.降低非工作側(cè)舌尖
下列有關(guān)全口義齒調(diào)
的注意事項(xiàng)，哪項(xiàng)描述是錯(cuò)誤的（）
A.避免調(diào)降低垂直距離
B.避免將人工牙面的牙尖和溝窩形態(tài)磨除
C.調(diào)時(shí)應(yīng)單頜調(diào)磨
D.越調(diào)磨接觸點(diǎn)越多
E.宜使用大磨頭調(diào)
最新試題
下頜全口義齒基托磨光面形態(tài)通常呈凹形，但如果頰側(cè)翼緣區(qū)基托磨光面凹度太大會(huì)導(dǎo)致（）
修復(fù)體的固位力與下列哪種因素?zé)o關(guān)（）
全口義齒人工牙排列時(shí)，為什么要有平衡（）
無(wú)牙頜全口義齒修復(fù)印膜的要求，下列哪項(xiàng)不正確（）
腭穹隆的形態(tài)在修復(fù)學(xué)上可分為（）
下列哪項(xiàng)一般不應(yīng)引起全口義齒基托折裂（）
關(guān)于無(wú)牙頜的分區(qū)，下列不屬于緩沖區(qū)的是（）
雙側(cè)后牙高度磨耗而引起垂直距離降低者，適宜設(shè)計(jì)（）
邊緣過(guò)度伸展的全口義齒長(zhǎng)期戴用后最有可能出現(xiàn)的組織反應(yīng)是（）
試戴時(shí)檢查鄰面接觸點(diǎn)是否合適最好用（）