A.取下腭桿
B.腭桿組織面緩沖
C.腭桿組織面加自凝樹(shù)脂重襯
D.不做任何處理
E.取下腭桿后,戴義齒取印模,在模型上重新加腭桿
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A.準(zhǔn)確對(duì)位,粘結(jié)折裂基托
B.灌注石膏模型
C.涂塑前磨去折裂線兩側(cè)基托
D.單體溶脹、涂塑基托外形
E.涂塑后迅速放入燙水中
A.模型包埋固定在下半盒
B.左下57卡環(huán)包埋固定在下半盒
C.左下6包埋固定在下半盒
D.左下6翻至上半盒
E.基托邊緣適當(dāng)包埋
A.腭弓
B.絲圈式缺隙保持器
C.舌弓
D.活動(dòng)缺隙保持器
E.方弓絲矯治器
A.基托邊緣伸展不夠,邊緣封閉不好
B.唇、頰、舌系帶區(qū)基托邊緣緩沖不夠
C.人工牙排列的位置不當(dāng)
D.人工牙咬合不平衡
E.以上均是
A.調(diào)磨上后牙頰尖舌斜面、下后牙頰尖頰斜面
B.調(diào)磨上后牙頰尖和下后牙舌尖
C.調(diào)磨上后牙舌尖的頰斜面和下后牙頰尖的舌斜面
D.調(diào)磨上牙頰尖遠(yuǎn)中斜面和下牙舌尖近中斜面
E.以上均是
最新試題
不會(huì)影響瓷層透明度的操作是()。
非貴金屬基底冠的厚度應(yīng)不低于()。
固定橋粘固后當(dāng)日出現(xiàn)過(guò)敏性疼痛,該癥狀可能的原因不包括()。
上頜后堤區(qū)最寬的部分是()。
樹(shù)脂調(diào)拌時(shí),其粉和液按重量比,正確的比例是()。
橋與齦組織接觸面積大,齦面呈凹形的橋體是()。
鑄造網(wǎng)狀連接體用蠟線成形時(shí)要求蠟線直徑為()。
關(guān)于可摘局部義齒雕刻上頜第一前磨牙頰面形態(tài)的敘述,錯(cuò)誤的是()。
為了避免頸緣顯灰線(染色),最好選用的合金為()。
制作底冠蠟型的要點(diǎn)中,錯(cuò)誤的是()。