A.矢狀髁導(dǎo)斜度
B.側(cè)方髁導(dǎo)斜度
C.矢狀切導(dǎo)斜度
D.側(cè)方切導(dǎo)斜度
E.髁間距
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A.后牙應(yīng)按補(bǔ)償曲線排列,一般與髁導(dǎo)斜度成正比
B.保持雙側(cè)牙合平衡
C.保持單側(cè)的牙合平衡
D.人工牙應(yīng)處在不妨礙頰舌運(yùn)動(dòng)的中立區(qū)
E.應(yīng)嚴(yán)格遵循牙槽嵴頂法則
A.上頜硬區(qū)
B.下頜舌骨嵴部
C.后堤區(qū)
D.頦孔及切牙孔
E.銳利的牙槽嵴
A.下頜尖牙區(qū)
B.下頜前磨牙區(qū)舌側(cè)
C.下頜磨牙區(qū)頰側(cè)
D.下頜磨牙區(qū)舌側(cè)
E.下頜前磨牙區(qū)頰側(cè)
A.6mm
B.8mm
C.10mm
D.15mm
E.以上均不正確
A.托盤(pán)寬度比牙槽嵴寬2~3mm
B.托盤(pán)邊緣高度應(yīng)離開(kāi)黏膜皺襞2~3mm
C.上頜托盤(pán)腭側(cè)至顫動(dòng)線后3~4mm
D.托盤(pán)若邊緣稍短時(shí),可用蠟片或印模膏加長(zhǎng)
E.以上均是
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全冠軸面熔模成型后,在齦緣處切去2mm加蠟的主要目的是()。
為了加強(qiáng)全口義齒牙冠的立體感,在制作基托蠟型時(shí)可以()。
自潔作用好但審美性、發(fā)音、舌感略差的橋體是()。
不會(huì)影響瓷層透明度的操作是()。
貴金屬基底冠的的厚度應(yīng)為()。
上頜后堤區(qū)的范圍是()。
鑄件研磨、拋光中應(yīng)遵循的原則是()。
矯治咬上唇的不良習(xí)慣,通常采用的方法是()。
全冠用滴蠟法恢復(fù)頜面形態(tài)時(shí),常分為()。
上頜后堤區(qū)最窄的部分是()。