在全口義齒排牙過(guò)程中,要求前牙排成淺覆關(guān)系指的是()
A.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離為0.5mm
B.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離為1.0mm
C.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離為2.0mm
D.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離為2.5mm
E.上前牙蓋過(guò)下前牙的垂直距離為3.0mm
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A.基牙分散,各固位體之間的相互制約作用增強(qiáng)
B.基牙分散,制鎖作用增強(qiáng)
C.基牙分散,基牙倒凹增大
D.基牙分散,卡環(huán)數(shù)量增加
E.基牙分散,義齒基托面積越大
A.組織面
B.磨光面
C.咬合面
D.平面
E.吸附面
A.基托面積大小
B.牙槽嵴高低
C.邊緣封閉好壞
D.后堤區(qū)寬窄
E.黏膜厚薄
A.牙支持式
B.黏膜支持式
C.混合支持式
D.卡環(huán)支持式
E.支托支持式
A.1~5分鐘
B.5~8分鐘
C.10~15分鐘
D.15~20分鐘
E.20~25分鐘
最新試題
患者試戴全口義齒,只有咀嚼食物時(shí)義齒易脫位,原因是()。
暫時(shí)冠的目的不是()。
下列哪項(xiàng)不是牙列缺失造成的軟組織改變()。
下列哪項(xiàng)不屬于義齒的不穩(wěn)定因素()。
二型觀測(cè)線測(cè)出的倒凹區(qū)主要位于基牙的()。
從口內(nèi)取出可摘局部義齒印橫時(shí),一般先()。
為消除可摘局部義齒不穩(wěn)定,錯(cuò)誤的方法是()。
如余留牙舌側(cè)嚴(yán)重傾斜,應(yīng)選用的大連接體為()。
后堤區(qū)指()。
關(guān)于RPA卡環(huán),下列描述中錯(cuò)誤的是()。