多項(xiàng)選擇題磁粉檢測(cè)工藝卡中的檢測(cè)技術(shù)要求包括（）。
A.檢測(cè)比例
B.驗(yàn)收級(jí)別
C.檢測(cè)部位
D.執(zhí)行標(biāo)準(zhǔn)
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1.多項(xiàng)選擇題滲透液滲入表面開(kāi)口缺陷后，保留在表面開(kāi)口缺陷內(nèi)的現(xiàn)象稱(chēng)為滲透液缺陷截留，滲透液截留中，可辨別的擴(kuò)散范圍包括（）。
A.進(jìn)入缺陷接近表面的可溶范圍
B.在缺陷中延伸較深的可溶范圍
C.在缺陷中最深的不可溶范圍
D.在缺陷中最深的可溶范圍
2.多項(xiàng)選擇題曝光因子是結(jié)合（）表達(dá)的關(guān)系式。
A.互易律
B.強(qiáng)度衰減規(guī)律
C.射線衰減定律
D.平方反比定律
