問(wèn)答題

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答案： ①Gate oxide（柵極氧化層）的沉積；
②Poly film的沉積及SiON（在光刻...
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【簡(jiǎn)答題】一般的離子注入層次（Implant layer）工藝制造可分為那幾道步驟?
答案： 一般包含下面幾道步驟：
①光刻（Photo）及圖形的形成；
②離子注入調(diào)整；
③離子注入完...
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【簡(jiǎn)答題】一般的阱區(qū)離子注入調(diào)整電性可分為那三道步驟？ 功能為何？
答案： 阱區(qū)離子注入調(diào)整是利用離子注入的方法在硅片上形成所需要的組件
電子特性，一般包含下面幾道步驟：
①W...
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