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A.系統(tǒng)誤差
B.隨機(jī)誤差
C.過(guò)失誤差
A.砝碼腐蝕
B.試劑中含有微量待測(cè)組分
C.重量法測(cè)定SiO2時(shí)，試液中硅酸沉淀不完全
D.樣品稱量過(guò)程中，環(huán)境溫度和濕度微量波動(dòng)
A..具有對(duì)稱性也就是絕對(duì)值大小相等的正負(fù)誤差出現(xiàn)的概率相等
B.具有單峰性
C.具有有界性
D.正態(tài)分布曲線的位置和形狀是由樣本平均值和樣本標(biāo)準(zhǔn)偏差兩個(gè)參數(shù)確定
A.系統(tǒng)誤差又叫可測(cè)誤差，主要是由某種固定的原因造成的
B.偶然誤差是定量分析中誤差的主要來(lái)源
C.系統(tǒng)誤差是可以通過(guò)校正的方法予以消除或減小
A.重復(fù)測(cè)定樣品
B.測(cè)定一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)樣品
C.測(cè)定一個(gè)內(nèi)部參考標(biāo)準(zhǔn)
最新試題
載波相位測(cè)量如觀測(cè)過(guò)程中跟蹤衛(wèi)星信號(hào)沒有中斷，則初始時(shí)刻整周相位是未知數(shù)，通常為一個(gè)常數(shù)，稱為（）
衡量地形圖測(cè)量的技術(shù)指標(biāo)主要有地物點(diǎn)的（）、等高線插求點(diǎn)的高程中誤差、細(xì)部點(diǎn)的平面和高程中誤差以及地形點(diǎn)的最大點(diǎn)位間距。
精密經(jīng)緯儀光學(xué)部件上出現(xiàn)線紋斑，則說(shuō)明光學(xué)部件有（）現(xiàn)象。
精密光學(xué)水準(zhǔn)儀的日常保養(yǎng)中，一般使用（）擦拭鏡片。
精密光學(xué)水準(zhǔn)儀測(cè)量高程時(shí)應(yīng)使用（）
絕對(duì)定位定位精度為（）。
若依次采用元素法、主點(diǎn)法或交點(diǎn)法三種路線定義方法，那么路線定義的最終數(shù)據(jù)為最后采用（）的定義方法所得到的有效數(shù)據(jù)。
度盤刻劃誤差，可以按照（）變換水平度盤位置削弱該誤差影響。
已知某線路JD的觀測(cè)右角大小為229°09ˊ25〞，那么該線路的轉(zhuǎn)向角為（）。
雙面水準(zhǔn)尺中，以下說(shuō)法正確的是（）。