A.二次電磁場與一次電磁場同相；
B.二次電磁場與一次電磁場相位差90°；
C.兩個(gè)電磁場分量之間的相位角總是大于90°，因而使一次電磁場部分抵消；
D.二次電磁場與一次電磁場相位差180°，因此產(chǎn)生一個(gè)大的相位移
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A.垂直信號是經(jīng)解調(diào)的，而水平信號不是；
B.垂直信號和水平信號頻率相同；
C.垂直信號和水平信號相位總是相同的；
D.以上都不是。
A.圍繞線圈；
B.內(nèi)部探頭線圈；
C.表面探頭線圈；
D.A和B
A.穿過兩個(gè)線圈的磁通量差不多相同；
B.來自任一線圈的信號均可用來提供關(guān)于試樣的信息；
C.這種排列對小缺陷不靈敏；
D.以上都是；
E.A和B
A.差動(dòng)線圈的二次繞組；
B.絕對線圈；
C.單繞組線圈；
D.以上都是.
A.圍繞式螺線管；
B.磁軛；
C.A和B；
D.以上都不是
最新試題
在射線照相檢驗(yàn)中，隨著射線能量的提高，得到的圖像不清晰度也將增大。
對焊接接頭穩(wěn)定時(shí)間有規(guī)定的產(chǎn)品，工藝規(guī)程應(yīng)作出規(guī)定，檢驗(yàn)監(jiān)控確認(rèn)，檢驗(yàn)蓋章時(shí)穩(wěn)定時(shí)間不足者應(yīng)在申請單注明穩(wěn)定時(shí)間節(jié)點(diǎn)，否則X光室視為穩(wěn)定時(shí)間符合要求。
底片或電子圖片、X射線照相檢驗(yàn)記錄、射線檢測報(bào)告副本、檢測報(bào)告等及臺(tái)帳由X光透視人員負(fù)責(zé)管理。
為了提高射線照相對比度，可以采用高電壓、短時(shí)間、大管電流的方式曝光。
X射線檢驗(yàn)人員負(fù)責(zé)對需排除的超標(biāo)缺陷實(shí)施定位、做好相應(yīng)標(biāo)注，確保定位準(zhǔn)確。
缺陷分類應(yīng)符合驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)的要求，標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的缺陷或不屬于X射線照相檢驗(yàn)范疇的缺陷，必要時(shí)可予以注明供有關(guān)人員參考，但不作為合格與否判定的依據(jù)。
檢測申請時(shí)工序狀態(tài)應(yīng)清楚、工序質(zhì)量應(yīng)符合工序質(zhì)量要求，檢驗(yàn)蓋章確認(rèn)，確保焊接、檢驗(yàn)、檢測等全過程具有可追溯性。
X光檢驗(yàn)組按復(fù)查清單組織復(fù)查，并出具X光底片復(fù)查報(bào)告，復(fù)查無遺留問題方可進(jìn)行試壓。
X射線檢測圖像直觀、缺陷定性準(zhǔn)確，因此焊接缺陷無論大小和延伸方向都可以選擇X射線檢測。
焊接工藝處理超標(biāo)缺陷必須閱片的主要目的是（）。