采用面光源曬版時，可通過縮小燈距和使用分光格將面光源分割成局部點光源等方式。既可提高曝光速度，又可減少散射光和漫射光。

原版上網(wǎng)點質量的黑度低，應D<2.0時應重新制版。

平版曬版中，主要應用的光敏物質是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。

燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當光源一定時，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關系。

曬版時，使用的感光物盡管是光敏物，在光照下能發(fā)生化學反應，有時卻能在亮室下而不必在暗室下操作。

用修復工具復制圖像和使用圖案工具復制圖像產生的效果一樣。

理論上講，感光版的反差系數(shù)較小，原版網(wǎng)點為實點時，只要曝光量大于感光版的臨界光能，就能得到良好的網(wǎng)點再現(xiàn)效果，曝光的寬容度就大。

裝版時，防止原版不平，應防止折壓原版或膠帶過近。

在曬版過程中用到的化學藥品有的屬于光敏性物質，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險和不必要的事故。

曬版過程基本上是一個物理加工過程，它涉及到一定的光物理知識、表面物理性能等物理基礎知識。