填空題隨著銅布線中大馬士革工藝的引入,金屬化工藝變成刻蝕()以形成一個凹槽,然后淀積()來覆蓋其上的圖形,再利用()把銅平坦化至ILD的高度。
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材料根據(jù)流經(jīng)材電流的不同可分為三類()。
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試述兩種傳輸線電感,比較其優(yōu)缺點(diǎn)。
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圖a中M1和M2為某CMOS工藝中的兩個NMOS管,M1的W/L=12μm/6μm,M2的W/L=4μm/2μm,其它物理參數(shù)及偏置均相同。圖b中給出了M1的漏極電流Id1隨Vgs的變化曲線,請畫出Id2的大致變化,并說明Id1和Id2有什么不同,并解釋不同的主要原因。
題型:問答題
20世紀(jì)上半葉對半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)量展做出貢獻(xiàn)的4種不同產(chǎn)業(yè)主要是()。
題型:多項(xiàng)選擇題