A.水洗型
B.后乳化型
C.溶劑型
D.熒光型
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A.零件截面厚度變化大
B.安倍值太高
C.表面附近有鉆孔
D.以上都是
A.現(xiàn)場(chǎng)記錄磁痕，如有可能應(yīng)采用復(fù)印法
B.磁痕復(fù)印需在磁痕干燥后進(jìn)行
C.用拍照法記錄磁痕時(shí)需把量尺同時(shí)拍攝進(jìn)去
D.以上都對(duì)
A.白磁粉法
B.白磁懸液
C.黑磁懸液
D.熒光磁懸液
A.材料磁化的難易程度
B.零件中磁場(chǎng)的深度
C.零件退磁需要的時(shí)間
D.保留磁場(chǎng)的能力
A.電感
B.電阻率
C.電容
D.磁導(dǎo)率
最新試題
軟X 射線管選用鉬作陽極靶，鉬靶和鎢靶比較，（）。
常用的顯像方法包括（）。
對(duì)底片進(jìn)行評(píng)定時(shí)，首先對(duì)底片進(jìn)行質(zhì)量檢查，不滿足要求的底片不予評(píng)定，質(zhì)量檢查項(xiàng)目有（）。
筒形或環(huán)形鍛件的鍛造工藝是先鐓粗，后沖孔，再滾壓。因此，缺陷的取向比軸類鍛件和餅類鍛件中的缺陷取向復(fù)雜。所以對(duì)這類鍛件一般采用（）進(jìn)行檢測(cè)。
下列關(guān)于照射場(chǎng)的大小對(duì)散射比的影像的說法，錯(cuò)誤的有（）。
滲透檢測(cè)通常在（）前進(jìn)行，表面處理后局部加工時(shí)需再次檢測(cè)。
當(dāng)障礙物尺寸Df< < 波長(zhǎng)λ時(shí)，會(huì)出現(xiàn)以下（）等現(xiàn)象。
后乳化型熒光滲透劑本身不含乳化劑，不起乳化作用，需經(jīng)乳化后才能用水清洗，不易被去除，可以用于（）的檢驗(yàn)。
表面活性劑分子在水或水溶液表面的吸附近于飽和時(shí)，水或水溶液的極性表面在很大程度上就被表面活性劑分子覆蓋，這時(shí)水或水溶液的（）。
各種電氣設(shè)備都有各自的保護(hù)系統(tǒng)，X 射線機(jī)的保護(hù)系統(tǒng)主要有（）。