問答題

【簡答題】對減反射膜材料的總體要求；TiO2膜制備工藝，反應方程式。

答案：要求：能具有良好的減反射效果，還要求透明度好，熱膨脹系數(shù)少，與硅片粘附性好，抗輻射，耐腐蝕。噴涂熱（水）解法工藝：利用N...

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【簡答題】鋁背電場結構；合金化作用；鋁背電場結構的作用，并解釋為何會產生這樣的作用。

答案：鋁背場結構：在pn結制備完后，在硅片背面淀積一層鋁膜，經(jīng)合金化高溫處理后，在硅片內形成p+層（高濃度p型雜質層），在硅片...

【簡答題】金屬電極作用；對金屬電極的要求；金屬電極的絲網(wǎng)印刷制作工藝。

答案：作用：收集電極（少數(shù)載流子）收集光生電流，然后引導到負載。
要求：
1.與硅片形成良好的歐姆接觸。<...