單項選擇題光刻加工采用的曝光技術(shù)中具有最高分辨率的是（）
A.電子束曝光技術(shù)
B.離子束曝光技術(shù)
C.X射線曝光技術(shù)
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1.單項選擇題硅微體刻蝕加工和硅微面刻蝕加工的區(qū)別在于（）
A.體刻蝕加工對基體材料進行加工，而面刻蝕加工不對襯底材料進行加工
B.體刻蝕加工不對基體材料進行加工，而面刻蝕加工對襯底材料進行加工
C.體刻蝕加工可獲得高縱橫比的結(jié)構(gòu)，而面刻蝕加工只能獲得較低縱橫比的結(jié)構(gòu)
2.單項選擇題光刻加工的工藝過程為（）
A.①氧化②沉積③曝光④顯影⑤還原⑦清洗
B.①氧化②涂膠③曝光④顯影⑤去膠⑦擴散
C.①氧化②涂膠③曝光④顯影⑤去膠⑦還原
