A、利用選區(qū)羽化
B、在通道中制作投影選區(qū)
C、選擇“圖層樣式/投影”
D、選擇“圖層樣式/內(nèi)陰影”
E、以上方法均可行
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你可能感興趣的試題
A、系統(tǒng)預置（SystemPreferencE.程序中的Dock預置面板
B、“蘋果”菜單下的“Dock”子菜單
C、“文件”菜單下的“Dock”子菜單
D、Dock應用程序
E、都不可以
A、仿制圖章
B、圖案圖章
C、修復畫筆
D、修補工具
E、摩術(shù)橡皮擦工具
A、復制路徑
B、描邊路徑
C、填充路徑
D、剪貼路徑
E、建立選區(qū)
A、為了保證退底圖像不漏邊，包圍圖像的路徑應適當向里一些
B、可以根據(jù)圖像特點及客戶要求進行一些取舍
C、對圖像的取舍主要取決于自己對圖像的認識和判斷
D、路徑應盡可能正好將圖案包圍
E、為了保證退底圖像不漏邊，包圍圖像的路徑應適當向外一些
A、在選取參考點時，在可能的情況下，參考點與修補點的距離越近越好
B、一般情況下應選擇柔角畫筆
C、畫筆大小的選擇不僅取決于參考點的范圍，還與修復部位的范圍有關(guān)
D、在修圖時圖像顯示比例的選擇與圖像的尺寸有關(guān)
E、一般情況下應選擇尖角畫筆
最新試題
在曬版過程中用到的化學藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險和不必要的事故。
對圖層蒙版進行濾鏡操作，和對圖層進行濾鏡操作，其效果是一樣的。
陽圖曬版時，若網(wǎng)點黑度較低，其網(wǎng)點部位也會透過一定量的光能而非完全不透光，使本該不曝光的部位也產(chǎn)生了部分曝光，導致印版的耐印力降低。
燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當光源一定時，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。
印版應具有良好的表面平整性，特別是在有效工作面內(nèi)更應具有如此特征。
平版曬版中，主要應用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。
原版上網(wǎng)點質(zhì)量的黑度低，應D<2.0時應重新制版。
用修復工具復制圖像和使用圖案工具復制圖像產(chǎn)生的效果一樣。
Photoshop中，Alpha通道最主要的用途是保存圖像色彩信息。
在歷史記錄控制面板中，刪除歷史記錄與撤銷歷史記錄是相同的，歷史記錄被刪除之后也可以恢復。