A、圓形
B、方形
C、橢圓形
D、長方形
E、菱形
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A、CMOS設(shè)置錯誤
B、電源插頭接觸不良
C、起動文件丟
D、硬盤物理錯誤
A、Option+Apple
B、R+P
C、Option+Aplle+R+P
D、Alt+Ctrl
A、用優(yōu)化軟件和硬盤工具直接整理和優(yōu)化
B、換另一個啟動盤整理和優(yōu)化
C、用光盤啟動整理和優(yōu)化
D、更換硬盤
A、打印機表面及四周清潔
B、打印機窗口顯示是否正常
C、打印機的IP地址是否正確
D、網(wǎng)線是否聯(lián)接好
A、停止工作
B、修改保養(yǎng)方法
C、用自己認為正確的方法保養(yǎng)
D、停止工作并馬上通知相關(guān)負責(zé)人
最新試題
燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時,版面照度與燈距平方成反比,照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。
平版印刷時我們應(yīng)該先上墨,再上水。
曬版過程基本上是一個物理加工過程,它涉及到一定的光物理知識、表面物理性能等物理基礎(chǔ)知識。
采用面光源曬版時,可通過縮小燈距和使用分光格將面光源分割成局部點光源等方式。既可提高曝光速度,又可減少散射光和漫射光。
鏈接的圖層可以同時進行移動、縮放和填充等操作。
裝版時,防止原版不平,應(yīng)防止折壓原版或膠帶過近。
感光版的涂層越厚,它的反射能力越強,那么曬版時所需的曝光量越小,光滲量和光散射量相應(yīng)減少,將會造成圖文殘缺或空白部位上臟等故障。
在曬版過程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì),具有光不穩(wěn)定性,有的具有強腐蝕性或劇毒性,而有的則是易燃易爆品,所以必須全面了解這些藥品的基本性能,防止發(fā)生危險和不必要的事故。
平版曬版中,主要應(yīng)用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。
印版應(yīng)具有良好的表面平整性,特別是在有效工作面內(nèi)更應(yīng)具有如此特征。