A、如果使用矩形選框工具，可以先在其工具選項(xiàng)欄中設(shè)定“羽化”數(shù)值，然后再在圖像中拖拉創(chuàng)建選區(qū)
B、如果使用魔棒工具，可以先在其工具選項(xiàng)欄中設(shè)定“羽化”數(shù)值，然后在圖像中單擊創(chuàng)建選區(qū)
C、對(duì)于圖像中一個(gè)已經(jīng)創(chuàng)建好的沒(méi)有羽化邊緣的選區(qū)，可以先將其存儲(chǔ)在Alpha通道中，然后對(duì)Alpha通道執(zhí)行“濾鏡>模糊>高斯模糊”，然后再載入選區(qū)
D、對(duì)于圖像中一個(gè)已經(jīng)創(chuàng)建好的沒(méi)有羽化邊緣的選區(qū)，可通過(guò)“選擇>羽化”命令來(lái)實(shí)現(xiàn)羽化程度的數(shù)字化控制
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A、“擴(kuò)大選擇”指令是以現(xiàn)在所選擇范圍的顏色與色階為基準(zhǔn)，由選擇范圍接臨部分找出近似顏色與色階最終形成選區(qū)
B、“選擇相似”是由全部圖像中尋找出與所選擇范圍近似的顏色與色階部分，最終形成選區(qū)
C、“擴(kuò)大選擇”和“選擇相似”在選擇顏色范圍時(shí)，范圍的大小是受“容差”來(lái)控制的
D、對(duì)于同一幅圖像執(zhí)行“擴(kuò)大選擇”和“選擇相似”命令結(jié)果是一致的
A、按住Option（MaC./Alt（Win）鍵的同時(shí)拖拉鼠標(biāo)可得到正圓形的選區(qū)
B、按Shift鍵的同時(shí)拖拉鼠標(biāo)可得到正圓形的選區(qū)
C、按住Shift鍵可形成以鼠標(biāo)的落點(diǎn)為中心的橢圓形選區(qū)
D、按住Shift鍵使選擇區(qū)域以鼠標(biāo)的落點(diǎn)為中心向四周擴(kuò)散
A、這種模式只在有透明區(qū)域?qū)訒r(shí)才可選中
B、當(dāng)圖像的色彩模式是RGB時(shí)“背后”（BehinD.模式才可選中
C、當(dāng)圖像上新增加通道時(shí)“背后”（BehinD.模式才可選中
D、當(dāng)圖像上有選區(qū)時(shí)“背后”（BehinD.模式才可選中
A、使圖像中某些區(qū)域變暗
B、刪除圖像中的某些像素
C、使圖像中某些區(qū)域變亮
D、使圖像中某些區(qū)域的飽和度增
A、模糊工具只能使圖像的一部分邊緣模糊
B、模糊工具的強(qiáng)度是不能調(diào)整的
C、模糊工具可降低相鄰像素的對(duì)比度
D、如果在有圖層的圖像上使用模糊工具，只有所選中的圖層才會(huì)起變化
最新試題
套規(guī)線時(shí)可能套得不準(zhǔn)，為了解決這個(gè)問(wèn)題，我們?cè)谔滓?guī)線的時(shí)候一定要用放大鏡復(fù)校。
理論上講，感光版的反差系數(shù)較小，原版網(wǎng)點(diǎn)為實(shí)點(diǎn)時(shí)，只要曝光量大于感光版的臨界光能，就能得到良好的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)效果，曝光的寬容度就大。
調(diào)整圖像時(shí)，用色階調(diào)整和自動(dòng)色階調(diào)整是一樣的。
在曬版過(guò)程中用到的化學(xué)藥品有的屬于光敏性物質(zhì)，具有光不穩(wěn)定性，有的具有強(qiáng)腐蝕性或劇毒性，而有的則是易燃易爆品，所以必須全面了解這些藥品的基本性能，防止發(fā)生危險(xiǎn)和不必要的事故。
由于印版經(jīng)常性的和油墨、潤(rùn)色液及一些化學(xué)溶劑接觸，所以要求其具有較強(qiáng)的耐抗性能。但是在為了實(shí)現(xiàn)印刷中更容易和化學(xué)溶劑作用，印版的化學(xué)穩(wěn)定性一般比較差。
網(wǎng)點(diǎn)虛暈度是指網(wǎng)點(diǎn)邊緣區(qū)域密度過(guò)渡的快慢程度。過(guò)渡快的網(wǎng)點(diǎn)，其虛邊較寬，清晰度好，曬版時(shí)網(wǎng)點(diǎn)的還原再現(xiàn)性好。
印版空白部位如果有一小塊一小塊輕微吸墨，是曝光過(guò)量造成的。
陽(yáng)圖曬版時(shí)，若網(wǎng)點(diǎn)黑度較低，其網(wǎng)點(diǎn)部位也會(huì)透過(guò)一定量的光能而非完全不透光，使本該不曝光的部位也產(chǎn)生了部分曝光，導(dǎo)致印版的耐印力降低。
翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱為雙面曬版機(jī)，它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時(shí)交替運(yùn)行，工作效率高，封閉遮光性能好。
平版曬版中，主要應(yīng)用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。