陽圖曬版時(shí)，若網(wǎng)點(diǎn)黑度較低，其網(wǎng)點(diǎn)部位也會透過一定量的光能而非完全不透光，使本該不曝光的部位也產(chǎn)生了部分曝光，導(dǎo)致印版的耐印力降低。

曬版時(shí)，使用的感光物盡管是光敏物，在光照下能發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，有時(shí)卻能在亮室下而不必在暗室下操作。

翻轉(zhuǎn)型曬版機(jī)又可稱為雙面曬版機(jī)，它的裝版準(zhǔn)備和曝光可同時(shí)交替運(yùn)行，工作效率高，封閉遮光性能好。

燈距是影響曝光速度與勻度的因素。當(dāng)光源一定時(shí)，版面照度與燈距平方成反比，照度均勻度與燈距成正比關(guān)系。

印版應(yīng)具有良好的表面平整性，特別是在有效工作面內(nèi)更應(yīng)具有如此特征。

鏈接的圖層可以同時(shí)進(jìn)行移動、縮放和填充等操作。

平版印刷時(shí)我們應(yīng)該先上墨，再上水。

曬版過程基本上是一個(gè)物理加工過程，它涉及到一定的光物理知識、表面物理性能等物理基礎(chǔ)知識。

平版曬版中，主要應(yīng)用的光敏物質(zhì)是光分解型光敏物和光聚合型光敏物。

對圖層蒙版進(jìn)行濾鏡操作，和對圖層進(jìn)行濾鏡操作，其效果是一樣的。