單項(xiàng)選擇題在新一代的CMP中，有使用（）磨料在金屬表面上形成軟質(zhì)皮膜并加以去除的趨勢(shì)。

A.二氧化錳
B.鋁
C.氧化鉻
D.金剛石


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1.單項(xiàng)選擇題金相學(xué)的研磨之所以會(huì)在研磨面上造成如刮傷般的痕跡是由于在制程中（）。

A.氧化鉻磨料溶水制成的研磨液
B.使用羊毛研磨墊
C.采用旋轉(zhuǎn)研磨墊加壓的方法
D.無法必免的機(jī)械損耗

2.多項(xiàng)選擇題在對(duì)層間絕緣膜進(jìn)行CMP時(shí)，層間絕緣膜的表面會(huì)隨下列那些因素產(chǎn)生變化（）。

A.電路圖形結(jié)構(gòu)的凹凸
B.尺寸大小
C.位置分布
D.高度
E.密集程度

3.多項(xiàng)選擇題直流二極管輝光放電系統(tǒng)是由（）構(gòu)成。

A.抽真空的玻璃管
B.抽真空后再充入某種低壓氣體的玻璃管
C.兩個(gè)電極
D.加速器
E.增益管

4.單項(xiàng)選擇題在直流二極管輝光放電系統(tǒng)的玻璃管中，自由電子在碰撞氬原子之前可運(yùn)動(dòng)的平均距離又叫（）。

A.平均運(yùn)動(dòng)范圍
B.平均速度
C.平均碰撞距離
D.平均自由程

5.多項(xiàng)選擇題從電極的結(jié)構(gòu)看，濺射的方法包括（）。

A.直流濺射
B.交流濺射
C.二級(jí)濺射
D.三級(jí)濺射
E.四級(jí)濺射