下列哪些是進(jìn)行光刻前的預(yù)處理的步驟？（）

堅(jiān)膜烘焙在加熱平板上進(jìn)行，溫度控制在（）。

在顯影過(guò)程中，對(duì)于正性抗蝕劑，顯影液的使用要求是（）。

環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性，通常將環(huán)境溫度設(shè)定于（）。

根據(jù)曝光模式，光制機(jī)的種類(lèi)分為（）。

鋁的電遷移可能導(dǎo)致的結(jié)果是（）

（）可以通過(guò)帶電粒子在盛場(chǎng)作用下做運(yùn)動(dòng)把粒子進(jìn)行篩選，挑選出唯一需要注入的離子。

假設(shè)光刻膠的厚度是2000埃，二氧化硅的厚度為4000塊，如果要求經(jīng)過(guò)30秒的刻蝕后，厚度變?yōu)?400埃，那么這個(gè)過(guò)程中刻蝕速率是（）埃/分鐘。

兼具有各向異性刻蝕的優(yōu)點(diǎn)，又有可接受的選擇比的刻蝕方法是（）。

高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進(jìn)光刻機(jī)上，那么i線的UV光波長(zhǎng)為（）