刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

光學(xué)光刻中影響圖像質(zhì)量的兩個重要參數(shù)是什么？

例舉離子注入設(shè)備的5個主要子系統(tǒng)。

給出投影掩模板的定義。投影掩模板和光掩模板的區(qū)別是什么？

例舉并描出旋轉(zhuǎn)涂膠的4個基本步驟。

例舉并討論引入銅金屬化的五大優(yōu)點。

解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

干法刻蝕的目的是什么？例舉干法刻蝕同濕法刻蝕相比具有的優(yōu)點。干法刻蝕的不足之處是什么？

描述RF濺射系統(tǒng)。

離子源的目的是什么？最常用的離子源是什么？