問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】局部再現(xiàn)性偽裝筆跡容易變化的特征是什么？

答案：

容易改變的特征：
個(gè)別字的基本寫(xiě)法、某些常用字或偏旁的筆順、某些字的字形和搭配比例、某些筆畫(huà)的運(yùn)筆方向等。
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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】故意改變筆畫(huà)形態(tài)偽裝筆跡有哪幾種？
答案：

（1）弧形字；
（2）空心字；
（3）曲線(xiàn)字；
（4）點(diǎn)線(xiàn)字；
（5）重描字、外加點(diǎn)綴筆畫(huà)字；
（6）尺劃字。
問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】故意改變書(shū)寫(xiě)速度偽裝筆跡有哪幾種？
答案： （1）強(qiáng)行加快書(shū)寫(xiě)速度書(shū)寫(xiě)；
（2）故意放慢書(shū)寫(xiě)速度書(shū)寫(xiě)。
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