濕法用磁粉粒度一般比干法小。

一般說來，進(jìn)行了周向磁化工件的退磁，應(yīng)先進(jìn)行一次縱向磁化。

退磁就是消除材料磁化后的剩余磁場使其達(dá)到無磁狀態(tài)的過程。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長度為兩條磁痕之和加間距。

熒光磁粉檢測時(shí)，磁痕的評定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見光照度應(yīng)不小于20Lx。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。

磁粉檢測，所有的磁痕尺寸、數(shù)量和產(chǎn)生部位均應(yīng)記錄并圖示。

在不退磁的情況下，周向磁化產(chǎn)生的剩磁比縱向磁化產(chǎn)生的剩磁有更大的危害性。

材料磁導(dǎo)率低（剩磁大）及直流磁化后，退磁磁場換向的次數(shù)（退磁頻率）應(yīng)較多，每次下降的磁場值應(yīng)較小，且每次停留的時(shí)間（周期）要略長。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：磁粉檢測時(shí)一般應(yīng)選用A1-60/100型標(biāo)準(zhǔn)試片。