JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：當(dāng)辯認(rèn)細(xì)小缺陷磁痕時(shí)應(yīng)用2～10倍放大鏡進(jìn)行觀察。

干磁粉可采用手動(dòng)或電動(dòng)噴粉器以及其他合適的工具來施加，施加時(shí)磁粉應(yīng)厚些撒在工件表面上。

剩磁法不能用于干法檢測(cè)。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí)，按一條磁痕處理，其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。

濕法用磁粉粒度一般比干法小。

熒光磁粉檢測(cè)時(shí)，磁痕的評(píng)定應(yīng)在暗室或暗處進(jìn)行，暗室或暗處可見光照度應(yīng)不小于20Lx。

標(biāo)準(zhǔn)試塊主要用于檢驗(yàn)磁粉檢測(cè)的系統(tǒng)靈敏度，確定被檢工件的磁化規(guī)范。

JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定：直流退磁法是將需退磁工件放入直流磁場(chǎng)中，逐漸減小電流至零。

對(duì)于交流線圈，線圈中的工件將影響電流的調(diào)整。

在不退磁的情況下，周向磁化產(chǎn)生的剩磁比縱向磁化產(chǎn)生的剩磁有更大的危害性。