A.與缺陷寬深比無(wú)關(guān);
B.缺陷深度至少是其寬度的5倍;
C.缺陷的寬深比為1;
D.以上都不是
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A.與磁場(chǎng)成180°角;
B.與磁場(chǎng)成45°角;
C.與磁場(chǎng)成90°角;
D.與電場(chǎng)成90°角
A、影響零件的磁導(dǎo)率
B、對(duì)磁場(chǎng)強(qiáng)度無(wú)影響
C、改變磁場(chǎng)強(qiáng)度
D、改變磁場(chǎng)方向
A.安培數(shù);
B.安匝數(shù);
C.瓦特?cái)?shù);
D.歐姆數(shù)
A.周向磁場(chǎng);
B.縱向磁場(chǎng);
C.與電流類(lèi)型有關(guān);
D.間歇磁場(chǎng)
A.可增大磁通密度;
B.有助于加熱從而有利于磁感應(yīng);
C.增大接觸面積,減少燒傷零件的可能性
D.有助于提高零件上的電流強(qiáng)度
最新試題
對(duì)于交流線圈,線圈中的工件將影響電流的調(diào)整。
JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:兩條或兩條以上缺陷磁痕在同一直線上且間距不大于2mm時(shí),按一條磁痕處理,其長(zhǎng)度為兩條磁痕之和加間距。
在不退磁的情況下,周向磁化產(chǎn)生的剩磁比縱向磁化產(chǎn)生的剩磁有更大的危害性。
磁粉檢測(cè),所有的磁痕尺寸、數(shù)量和產(chǎn)生部位均應(yīng)記錄并圖示。
采用剩磁法時(shí),磁懸液應(yīng)在通電結(jié)束后再施加,一般通電時(shí)間為2~3s。
磁懸液應(yīng)采用軟管沖淋或浸漬法施加于工件表面。
在工件內(nèi)部的剩磁,周向磁化要比縱向磁化大的多。
C型靈敏度試片與A型靈敏度試片使用方法相同,只是C型靈敏度試片能用于狹小部位。
根據(jù)JB/T4730.4-2005標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定,磁粉檢測(cè)前的工件表面準(zhǔn)備包括打磨表面、安裝接觸墊、封堵盲孔和涂敷反差增強(qiáng)劑。
材料磁導(dǎo)率低(剩磁大)及直流磁化后,退磁磁場(chǎng)換向的次數(shù)(退磁頻率)應(yīng)較多,每次下降的磁場(chǎng)值應(yīng)較小,且每次停留的時(shí)間(周期)要略長(zhǎng)。