對于氣體分餾裝置，在塔底溫度穩(wěn)定的情況下，一般塔頂壓力的控制方法是采用調(diào)節(jié)冷卻器的（）溫度和調(diào)節(jié)回流量的方法來調(diào)節(jié)塔頂?shù)膲毫Α?/p>

碳四裝置反應器原料來自于（）

若脫乙烷塔操作不好，將碳二帶至丙烯塔，丙烯塔在開車建立循環(huán)過程中會出現(xiàn)（）現(xiàn)象。

進萃取裝置原料中異丁烷含量過高有利于提高（）

碳四裂解裝置進料泵跳閘，引起原料中斷應（）

碳四裝置回流罐頂去低壓調(diào)節(jié)閥是（）

生產(chǎn)中允許塔盤有少量泄漏，但正常生產(chǎn)泄漏量不能超過（）

氣溫升高時，氣體分餾裝置在操作上應（）

液化氣引進塔后，趕氮氣結束，塔底通熱源以后，會發(fā)生塔底液面急速下降，此時這些液態(tài)烴原料到（）去了。

氣分裝置地下水罐的冷凝水來自于（）