A、曝光時(shí)試件上的電焊濺渣
B、底片顯影前被定影液濺污
C、底片被顯影液濺污
D、底片被水濺污
您可能感興趣的試卷
你可能感興趣的試題
A、底片盒漏光
B、增感屏不潔
C、水濺污了底片
D、顯影不均勻
A、曝光時(shí)間不正確
B、試件與底片距離過大
C、曝光時(shí)所用的鉛箔增感屏損壞
D、過度暴露在紫外線下
A、缺陷
B、瑕疵
C、錯(cuò)誤顯示
D、無關(guān)顯示
A、錯(cuò)誤顯示
B、無關(guān)顯示或非相關(guān)顯示
C、有關(guān)顯示或相關(guān)顯示
D、瑕疵
A、錯(cuò)誤顯示
B、無關(guān)顯示或非相關(guān)顯示
C、有關(guān)顯示或相關(guān)顯示
D、瑕疵
最新試題
關(guān)于圓晶片輻射的超聲波,下列說法正確的是()(S為傳播距離,N為近場(chǎng)長度)。
鐵磁材料達(dá)到居里點(diǎn)時(shí),會(huì)發(fā)生什么現(xiàn)象()
下列磁化方法中容易計(jì)算工件表面磁場(chǎng)強(qiáng)度的是()
磁力線有哪些特征?
表征平面圓晶片發(fā)射的超聲束特征的主要是()
與直探頭相比,雙晶探頭()
顯示試件某一縱斷面的聲象的顯示方式為()
在近場(chǎng)以外的部分,即聲程大于3N的遠(yuǎn)場(chǎng)區(qū)聲壓與距離的關(guān)系為()
關(guān)于超聲波斜入射,下列說法正確的是()
采用X射線機(jī)對(duì)某一工件探傷時(shí),焦距為1m,曝光時(shí)間為6min,其余條件均不變,曝光時(shí)間改為3min時(shí)透照焦距應(yīng)改為()