單項(xiàng)選擇題HMDA在反應(yīng)時(shí)工藝要求的系統(tǒng)含水量（）%。
A.0.6
B.0.5
C.0.06
D.0.05
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1.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置C-A002向D-A008采出時(shí)，塔頂回流比（）
A.1：1
B.2：1
C.1：2
D.1：4
2.單項(xiàng)選擇題HMDA裝置C-A002加壓精餾時(shí)提供壓力的氣體介質(zhì)為（）
A.氫氣
B.氮?dú)?br />
C.氫氣-氮?dú)?br />
D.空氣
