A.只有Eθ,Hφ分量,TEM波; B.E、H同頻率,同相位; C.波阻抗等于媒質(zhì)的本征阻抗。 D.輻射功率與sinθ成正比。
源點(diǎn)t時(shí)刻對(duì)場(chǎng)點(diǎn)在()時(shí)刻發(fā)生的變化作出響應(yīng)。(其中r為源點(diǎn)與場(chǎng)點(diǎn)的距離。C為光速)
A.A B.B C.C
A.側(cè)射陣 B.端射陣 C.直線陣