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蒸發(fā)鍍膜中電阻加熱源可分為直接加熱源和間接加熱源,其中間接加熱源是把待蒸發(fā)材料放入坩堝中,對坩堝進行間接加熱。
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蒸發(fā)鍍膜中電阻加熱源可分為直接加熱源和間接加熱源,其中直接加熱源的加熱體和待蒸發(fā)材料的載體為同一物體;而間接加熱源是把待蒸發(fā)材料放入坩堝中進行間接加熱。
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離子注入工藝中入射離子能量低于臨界能量時核阻止本領(lǐng)占主導,高于臨界能量時電子阻止本領(lǐng)占主導。
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